半导体工业的历史准确来说应该出现在冷战时期，正是冷战的背景促使了半导体工业不断向前发展，其中苏联和美国的方向还各自不同，呈现了两种截然不同的半导体工业体系发展过程。
今天的半导体工业的基础得益于晶体管的发展，相比之下苏联在晶体管的制造工艺上并不比美国落后多少，可在集成电路出现后，苏联在半导体工业发展选择方向上的错误便显露了出来。
一味想将半导体工业扑在军事上的苏联当局，选择的电子管微型化路线，显然是不适用于集成电路发展的，所以在集成电路的竞赛上，美国取得了方向山的胜利，这让美国将优势保持到了今天。
受到获胜一方美国的为代表的全力制裁后，被打醒的俄罗斯将全力以赴开始投入到光刻机的研发中，这也是俄罗斯在冷战结束后走向半导体工业自主化的重要一步，那么俄罗斯的这一次尝试能否成功呢？
一、宣布研制7nm光刻机
随着集成电路的发展，光刻机这种必要的生产设备显得越来越重要了，特别是生产微型芯片时，光刻机在搭建微型电路上的功能至今还是无可替代的。
尽管光刻机这种设备非常之重要，可是能够生产光刻机以及配件的国家却是屈指可数的，正因为如此美国在能在今天发挥自己产业链主导的地位，来制裁俄罗斯，防止俄罗斯依靠高端芯片来扩充自己的军备力量，这让俄罗斯不得不选择了自主化生产光刻机的道路，于是俄罗斯宣布将自主研制7nm光刻机，还表示将在2028年投产，这一度令不少西方国家大感惊讶。
7nm光刻机的工艺难度并不低，这让今天很多工业基础深厚的国家都一定能够独立建造出来，俄罗斯的高调宣布在不少西方国家眼里不过是一种吹牛皮罢了。
抛开俄罗斯当今的工业基础不谈，在人才储备上，俄罗斯是完全有能力独自建造7nm光刻机的。得益于继承苏联时代遗留下来的严谨而优质的教育，这让俄罗斯在独立三十年来创造了不少优秀的人才，其中就有半导体物理学和激光物理学的不少大师，因而让俄罗斯有了独立研制光刻机的底气。
在光刻机的核心部件激光光刻仪器方面，俄罗斯曾独立开辟过氖氦激光发射器，与西方国家普遍采用的二氧化碳激光器走出了一条完全不同的道路，于是俄罗斯想要独立研制光刻机其实并不是一件难事，相反俄罗斯目前最缺的却是时间和经济发展，所以这让西方国家更加扩大了对俄罗斯的制裁力度，以压迫其放弃当前的科研计划。
二、前途依旧渺茫
因为光刻机是不少高科技体现的一个整体，所以当一方面有所缺失，那么对于光刻机来说都是致命的，这要求不光在光刻机的硬件上要取得成功，在其软件上也不能落后。俄罗斯因为长年电子工业落后，所以在软件发展上也非常缓慢，于是俄罗斯今后即便研制出了成功的光刻机，想要将它用于生产也是一件非常困难的事，所以俄罗斯能否在未来成功研制出7nm光刻机，这还必须打上一个疑问号。
相比于俄罗斯从受到制裁才开始布局研制光刻机，中国则是未雨绸缪，很早就开始决定自主研制光刻机了，同时中国在这方面起步其实并不晚，在上世纪七十年代还仅仅跟随着国际发展的脚步，拿得出来并不落后的光刻机。
之所以会在日后慢慢落伍，中国与俄罗斯都有着相同的一点，那就是在软件上有着制约。因为电子工业发展没有及时发展相关的工业软件，所以即便能够生产出功能一致的光刻机，也会因为没有相配套的软件控制光刻机，导致光刻机成为了一套无用的机器。
这一点在被中国相关部门重视后，很快组织了多场研讨会议，准备自主研制相关的工业软件，让中国在工业软件上不再受限于人。
在工业软件上，中国不少企业都是中流砥柱，这其中便有华为公司等一大批在芯片研制领域取得傲人成绩的中国本土企业。
有了出色的国产工业软件后，中国在日后的半导体工业发展上将呈现出一个飞跃，这也是为什么中国要坚持一步一个脚印地走完光刻机研制的全部历程，当然俄罗斯现在宣布研制也是亡羊补牢未为不晚，起码能够在半导体工业自主化上迈出重要的一步。
有着丰厚人才资源的俄罗斯在宣布自主研制7nm光刻机后，尽管普遍不被西方国家看好，但这却是俄罗斯在半导体工业走向自主化中的重要一步，也证明了俄罗斯当今的研发实力是不弱于大部分西方国家的。
同样中国也在自主研制光刻机的道路上奋进，相信在不久的未来，两国的半导体工业都会取得长足的进步。
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